☆第１７９回　技術防衛と模倣特許技術

第１７９回　技術防衛と模倣特許技術

２０１４年６月２３日（月）

現在の特許制度では特許出願後１８ヶ月を経過すると、出願内容が公開されることになる。
さらに、日本では特許申請後１８ヶ月以降も非公開の制度はない。
公開された特許情報を教科書のように使い模倣するケースが海外を中心に増加している。
特許制度の枠外にある海外の国、特許制度を守らない国で模倣された製品が低価格で日本国内に流入するケースの増加が見られる。
日本や欧米ではこういったケースを警戒し特許申請を行わない場合が増加している。
独自技術を守る特許制度が逆に模倣の手段となっている。
製品開発には多大な資本が投下され、製品化し特許申請されたとたん模倣され、
製品販売量はコストが掛かっていない模倣製品のほうが多いと言う笑えない状況が多発する中で、特許制度の改革が必要なのは言うまでもない。

こういった模倣した製品が流入しない手段を構築する必要がある、その方法例を掲載してみよう。
(1)特許技術を使った模倣製品が輸入される場合重い関税か、輸入禁止をかける事が出来る制度を構築。
(2)特許非公開申請の構築
特許の申請時非公開18ヶ月以降も非公開の申請5年非公開、10年非公開等の非公開出願を認め、
特許内容類似件名または技術同一製品が出たときに申請者が確認し、調停申請する制度を構築する。

製品には技術開発費用がかかっているのである。
製品技術がコピーされれば当然価格競争力で、先行技術開発者のほうが劣勢に立たされるのは言うまでもない。
こういった模倣を防ぐ制度は早期に構築されるべきだ。

要望問い合わせ他

作成2014.03.20
更新2014.06.23

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